高频等离子体炬在工业中有很多应用

　　高频等离子体炬有许多应用程序,尤其是在等离子体净化化工、冶金和光学材料。它也可以制备超导材料,比如使用高频等离子体氢还原钒-硅(或钒-锗),氯化铌、铝或铌-锗蒸汽在超导材料的制备。冶金、矿山企业在中***需要处理的钛矿、钒渣、磷矿和工业耐火材料浪费很多渣含有稀有材料,采用高频等离子体炬是一个有前途的冶炼方法,提炼有用的金属和稀有元素。高频等离子体发生器输出功率在0.5 ~ 1兆瓦,效率是50% ~ 75%,放电室中心温度达到7000 ~ 7000。

　　低压等离子发生器,低压气体放电装置,通常由三部分组成:生产等离子电源,放电室、真空系统和工作气体(或反应气体供应系统。通常有四类:静电放电装置,高压电晕放电装置,高频率(rf)排放装置和微波放电装置。固体表面或需要处理的聚合物薄膜层的衬底的表面放电中,通过等离子体处理。由于低压等离子冷等离子体,当气压约为133 ~ 13.3 mpa,电子温度高达10000 k,和气体温度只有300,不烧坏矩阵,并有足够的精力去表面处理。低压等离子发生器已越来越广泛应用于等离子体聚合,制备的薄膜,蚀刻、清洗、和其它表面处理技术。成功的例子,比如:在半导体技术,使用氟利昂等离子体干蚀刻,与离子镀氮化钛薄膜在金属表面,等。自70年代以来,低压等离子体非金属固体(如玻璃、纺织品、塑料、等)的表面处理和修改技术快速发展。

　　除臭设备,生物除臭设备,等离子除臭设备,UV光电除臭设备,活性炭除臭设备专利技术，更节能，更环保