光氧催化设备的产生原理

光氧催化设备的产生原理

 

光氧催化设备的产生原理、光化学和光催化氧化是目前研究较多的高级氧化技术。光催化反应是光作用下的化学反应。光化学反应需要分子吸收***定波长的电磁辐射。

 

当能量高于半导体带隙的光子照射半导体时，半导体的价带电子从价带跃迁到导带，产生带正电荷的光致空穴和带负电荷的光致电子。光致空穴的强氧化能力和光致电子的还原能力导致了半导体光催化剂引发的一系列光催化反应。

 

半导体光催化氧化的羟基自由基反应机理已被***多数学者所认识。也就是说，当半导体颗粒如二氧化钛与水接触时，在半导体表面上产生高密度羟基。由于羟基的氧化电位高于半导体的价带位置，并且是高表面密度的物种，所以光照射半导体表面产生的空穴***先被表面羟基捕获。