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光氧催化设备的清洗工艺

光氧催化设备的清洗工艺
 
光催化氧化设备是一种应用广泛的净化设备,其工业化生产也非常重要。为了保持设备的使用寿命,我们需要定期清洁和维护设备。我们来介绍一下设备清洗流程:
一、清洗流程:
1.切断电源,打开检修门。
2.取出需要清洗的设备,在苛性钠水中浸泡半小时,然后用清水冲洗干净。
3.用自然的方法干燥,保证设备干燥后可以放回光解设备,从而完成简单的清洗工作。
二、清洗周期:
一般是3个月左右。清洗周期越短,气味处理效率越高。如果长时间不清洗,会有很多安全隐患。
三、清洁用洗涤剂:
就是普通热水可以用来喝烧碱。水温最好控制在50℃,因为在这个水温下烧碱的处理量是一个比较好的水温,所以需要清洗的设备可以在洗涤槽内清洗。
四、正确的清洗可以减少内部零件出现问题的可能性,提高使用效率,所以在实际操作中必须严格遵循正确的清洗流程和步骤,以保证清洗效果。
五、设备安装后,厂家会为企业做清洁维护培训。因为清洗过程不难,一般人都能操作,这也是光氧催化设备被广泛使用的因素之一。
光催化氧化设备以其独特的工作方式和良好的净化效率在工业生产中得到广泛应用,但长期使用会给设备带来大量的灰尘和麻烦,因此应定期清洗,并了解具体的清洗过程。