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光氧催化设备的清洗工艺

光氧催化设备的清洗工艺
 
光催化氧化设备是一种应用广泛的净化设备,其工业化生产也非常重要。为了保持设备的使用寿命,我们需要定期清洁和维护设备。我们来介绍一下设备清洗流程:
一、清洗流程:
1.切断电源,打开检修门。
2.取出需要清洗的设备,在苛性钠水中浸泡半小时,然后用清水冲洗干净。
3.用自然的方法干燥,保证设备干燥后可以放回光解设备,从而完成简单的清洗工作。
二、清洗周期:
一般是3个月左右。清洗周期越短,气味处理效率越高。如果长时间不清洗,会有很多安全隐患。
三、清洁用洗涤剂:
就是普通热水可以用来喝烧碱。水温***控制在50℃,因为在这个水温下烧碱的处理量是一个比较***的水温,所以需要清洗的设备可以在洗涤槽内清洗。
四、正确的清洗可以减少内部零件出现问题的可能性,提高使用效率,所以在实际操作中必须严格遵循正确的清洗流程和步骤,以保证清洗效果。
五、设备安装后,厂家会为企业做清洁维护培训。因为清洗过程不难,一般人都能操作,这也是光氧催化设备被广泛使用的因素之一。
光催化氧化设备以其******的工作方式和******的净化效率在工业生产中得到广泛应用,但长期使用会给设备带来***量的灰尘和麻烦,因此应定期清洗,并了解具体的清洗过程。