光氧催化设备分解过程

光氧催化设备分解过程

 

光降解通常是指有机物在光*的作用下逐渐氧化成低分子中间产物，寿命变成CO2、H2O等离子如NO3-、PO43-、Cl-、等。有机物的光降解分为直接光降解和间接光降解。前者是指有机分子吸收光能后发生的进一步化学反应。后者是周围环境中的一些物质吸收光能进入激发态，进而诱发一系列有机污染反应。对于环境中难以生物降解的有机污染物，间接光降解更为重要。

 

光化学反应降解污染物的方法有无催化剂光氧化和有催化剂光氧化。前者多以氧气和过氧化氢为氧化剂，在紫外光照射下氧化分解污染物；后者又称为光催化氧化，一般可分为均相催化和非均相催化。在均相光催化降解中，以Fe2+或Fe3+和H2O2为介质，通过光-芬顿反应降解污染物。在非均相光催化降解中，在污染体系中加入一定量的光敏半导体材料，结合一定量的光辐射，使光敏半导体在光的照射下被激发产生电子-空穴对。半导体上吸附的溶解氧和水分子与电子-空穴相互作用，产生HO等高度氧化的自由基，通过与污染物的羟基加成、取代和电子转移方程，使其完全或几乎完全矿化。